岭惩罚自适应 Mantel 检验及其在影像遗传学中的应用
统计方法学
2021-03-23 v2
摘要
我们提出一种岭惩罚自适应 Mantel 检验（AdaMant），用于评估两组高维特征之间的关联。通过引入岭惩罚，AdaMant 可同时跨多种度量检验关联。我们从关联度量与检验的角度展示了岭惩罚如何桥接欧氏距离与马哈拉诺比斯距离及其对应的线性模型。该结果不仅在理论上引人关注，而且在惩罚假设检验（尤其是影像遗传学等高维场景）中具有重要意义。将所提方法应用于一项健康成人视觉工作记忆的影像遗传学研究，我们识别出脑连接性（由 EEG 相干性度量）与选定遗传特征之间的有趣关联。
引用
@article{arxiv.2103.02156,
title = {Ridge-penalized adaptive Mantel test and its application in imaging genetics},
author = {Dustin Pluta and Tong Shen and Gui Xue and Chuansheng Chen and Hernando Ombao and Zhaoxia Yu},
journal= {arXiv preprint arXiv:2103.02156},
year = {2021}
}