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O/Cu(001)系统电子结构与几何结构的关系

材料科学 2009-11-07 v1

摘要

我们使用基于第一性原理的局部自洽实空间多路散射技术计算了(22×2)R45(2\sqrt{2}\times\sqrt{2})R45^{\circ} O/Cu(001)系统的电子结构。氧原子对相邻铜站点的长程Madul 法势产生差异扰动,从而影响局部电子能带。结果表明,氧的电子态与其邻居的电子态进行杂化,导致离子共价混合的键合。与c(2x2) overlayer的结果比较显示,扰动更强且库仑晶格能更高的(22×2)R45(2\sqrt{2}\times\sqrt{2})R45^{\circ}相具有更强的长程库仑相互作用,这也控制了系统中的电荷转移和化学键合。

关键词

引用

@article{arxiv.cond-mat/0203277,
  title  = {Relationship between Electronic and Geometric Structures of the O/Cu(001) System},
  author = {S. Stolbov and T. S. Rahman},
  journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0203277},
  year   = {2009}
}

备注

17 pages, 8 figures