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溅射生长 Cr$_2$O$_3$ 薄膜在场冷过程中的二次磁电效应

材料科学 2021-09-17 v1

摘要

Cr2_2O3_3 是典型的磁电(ME)材料,其电极化与磁极化之间存在线性耦合。由于时空反演对称性,Cr2_2O3_3 的磁点群禁止二次 ME 效应。在溅射生长的 Cr2_2O3_3 薄膜中,我们发现了块体单晶中所不存在的二次 ME 效应特征。我们利用拉曼光谱与磁化测量推断出时空对称性的破除,并证实了二次 ME 效应的出现。我们提出,亚稳态位点选择性痕量掺杂从块体 Cr2_2O3_3 原始磁点群中移除了空间、时间以及时空反演对称性。我们将二次 ME 效应纳入描述 ME 场冷过程中开关行为的模型,并估算了有效二次磁化率值。单轴反铁磁体中的二次磁电效应有望用于可集成光学、应变诱导与多铁效应的多功能反铁磁及磁电器件。

关键词

引用

@article{arxiv.2109.07677,
  title  = {Quadratic magnetoelectric effect during field cooling in sputter grown Cr$_2$O$_3$ films},
  author = {Muftah Al-Mahdawi and Tomohiro Nozaki and Mikihiko Oogane and Hiroshi Imamura and Yasuo Ando and Masashi Sahashi},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2109.07677},
  year   = {2021}
}