铬薄膜中钒的涉及效应及自旋密度波磁性
材料科学
2009-11-10 v1
摘要
薄铬膜中的自旋密度波 (SDW) 状态已知会被邻近层的涉及效应所影响。迄今为止主要关注的是界面处的交换相互作用引起的效应。本文报告了铬/钒 (Cr/V) 薄膜中涉及效应的联合中子和同步辐射散射研究，边界条件源于 Cr 与具有参数磁性 V 的界面杂化。我们发现，V/Cr 界面对铬膜中 SDW 的极化状态、周期以及 Néel 温度具有强而远距离的影响。这种异常强烈的效应出乎意料，理论并未予以预测。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0406071,
title = {Proximity effect of vanadium on spin-density-wave magnetism in Cr films},
author = {E. Kravtsov and R. Brucas and B. Hjorvarsson and A. Hoser and A. Nefedov and F. Radu and A. Remhof and S. Wilkins},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0406071},
year = {2009}
}
备注
7 figures