图案化硅衬底：室温 GaN 和 ZnO 极化激元激光器的通用平台
介观与纳米尺度物理
2015-06-19 v1 光学
摘要
本文介绍了一种用于制造室温极化激元激光器 (polariton lasers) 的新平台：在图案化硅衬底上外延生长的基于氮化物的分布式布拉格反射镜 (distributed Bragg reflectors)。图案化允许增强的应变弛豫，从而能够堆叠大量无裂纹的 AlN/AlGaN 对，并以大的空间均匀性实现数千的腔品质因数。GaN 和 ZnO 有源区在其上外延生长，并通过顶部介质布拉格反射镜完成腔体构建。这两种结构均显示出强耦合和室温极化激元激光发射，构成了迈向集成极化激元器件的中间步骤。
引用
@article{arxiv.1404.7743,
title = {Patterned silicon substrates: a common platform for room temperature GaN and ZnO polariton lasers},
author = {J. Zuniga-Perez and E. Mallet and R. Hahe and M. J. Rashid and S. Bouchoule and C. Brimont and P. Disseix and J. Y. Duboz and G. Gommé and T. Guillet and O. Jamadi and X. Lafosse and M. Leroux and J. Leymarie and Feng Li and F. Réveret and F. Semond},
journal= {arXiv preprint arXiv:1404.7743},
year = {2015}
}