Alq$_3$ 薄膜中的氧掺杂与极化子磁耦合
材料科学
2021-01-20 v1
摘要
关于有机自旋阀器件性能背后的物理机制仍理解不全。据若干近期模型,自旋输运发生于有机半导体带隙内的杂质能带中。这似乎被近期使用 LaSrMnO/Alq/AlO/Co 器件的实验所证实。所报道结果暗示磁电阻与 Alq 间隔层中可变氧掺杂间可能存在关联。本文中,我们通过第一性原理计算研究 Alq 薄膜中 O 分子与离子的电子与磁性质,以确定氧在 LaSrMnO/Alq/AlO/Co 器件的自旋输运中是否起重要作用。结论为否。事实上,我们表明 O 分子不形成杂质能带且彼此间无磁相互作用。相反,我们提出自旋输运可能由 Alq 离子间的直接交换耦合所实现。
引用
@article{arxiv.2101.07303,
title = {Oxygen doping and polaron magnetic coupling in Alq$_3$ films},
author = {Andrea Droghetti},
journal= {arXiv preprint arXiv:2101.07303},
year = {2021}
}
备注
6 pages, 2 figures