氧化铝上生长的薄 Co/Pt 双层膜中垂直各向异性的起源
材料科学
2011-10-13 v1
摘要
本文研究了在氧化铝上生长并经高达 650C 退火的 Co (1.6 nm)/Pt (3.0 nm) 双层膜中垂直各向异性的起源。高于 350C 时，所有层均表现出垂直各向异性。随后矫顽场随退火温度线性增加，遵循两个不同的速率：550C 以下为 0.05 T/100C，550C 以上为 0.8 T/100C。通过使用 X 射线衍射和透射电子显微镜进行仔细的结构表征，我们证明了 550C 以下存在 L1 型短程关联，而 550C 以上则观察到 L1 化学有序。我们得出结论：在氧化铝上生长并经退火处理的 Co/Pt 双层膜中观察到的垂直各向异性，可能不仅通常所认为的界面各向异性所致，还与后生长退火过程中发生的 CoPt 合金化和化学有序有关。
引用
@article{arxiv.1110.2628,
title = {Origin of perpendicular anisotropy in thin Co/Pt bilayers grown on alumina},
author = {L. Grenet and C. Arm and P. Warin and S. Pouget and A. Marty and A. Brenac and L. Notin and P. Bayle-Guillemaud and M. Jamet},
journal= {arXiv preprint arXiv:1110.2628},
year = {2011}
}
备注
submitted to Phys. Rev. B