优化 30 kV 电子束光刻中的 Josephson 结可重复性：背散射电子分布分析
量子物理
2024-03-29 v1 材料科学
超导电性
摘要
本文探讨了在 30 kV 电子束工艺中采用 Dolan 技术时，提高超导量子技术关键元件——Josephson 结可重复性的方法。本研究探讨了桥区沿线的剂量分布对可重复性的影响，解决了与制造敏感性相关的挑战。实验方法包括电子束光刻，并通过电子轨迹模拟阐明了背散射电子的行为。我们展示了不同结几何形状的制造，结果表明某些几何形状通过在结区产生更均匀的剂量分布，显著提高了可重复性。
引用
@article{arxiv.2403.19614,
title = {Optimizing Josephson Junction Reproducibility in 30 kV E-beam Lithography: Analysis of Backscattered Electron Distribution},
author = {A. M. Rebello and L. M. Ruela and G. Moreto and N. Y. Klein and E. Martins and I. S. Oliveira and F. Rouxinol and J. P. Sinnecker},
journal= {arXiv preprint arXiv:2403.19614},
year = {2024}
}