电离剖面监测器在费米实验室主注入器中的运行应用
加速器物理
2012-09-07 v1
摘要
电离剖面监测器 (IPMs) 用于费米实验室主注入器 (MI)，通过在注入时逐圈测量束流尺寸 (sigmas) 来监测注入晶格匹配，并在加速周期中测量束流的横向发射度。IPMs 提供了一种周期性的、非破坏性的逐圈发射度测量手段，适用于其他技术无法应用的场景。随着费米实验室将重心重新聚焦于强度前沿，诸如 IPMs 等非拦截式诊断设备预计将变得更为重要。本文概述了 IPMs 在费米实验室用于发射度测量和注入晶格匹配测量的运行应用，并总结了未来计划。
引用
@article{arxiv.1209.1326,
title = {Operational use of ionization profile monitors in the Fermilab Main Injector},
author = {Denton K. Morris and Philip Adamson and David Capista and Ioanis Kourbanis and Thomas Meyer and Kiyomi Seiya and David Slimmer and Ming-Jen Yang and James Zagel},
journal= {arXiv preprint arXiv:1209.1326},
year = {2012}
}
备注
3 pp. Particle Accelerator, 24th Conference (PAC'11) 2011. 28 Mar - 1 Apr 2011. New York, USA