切片三层石墨的非线性光学响应与量子几何

我们理论上研究了由无穿透对称性被垂直于三层的位移场破坏的 ABC 三层石墨的非线性光学响应。我们表明，切片三层石墨表现出大型的体积光生效，源于 DC 位移电流响应。该三层的导电性包含类似 AB 双层石墨的特征，也包含与 AB 双层石墨不同的特征。相对于 AB 双层石墨，ABC 三层石墨的新特征源于电子能带结构的量子几何特征，可通过改变位移场进行调节。我们关注位移场使得某些能隙在电荷中性点附近关闭并重新打开的 regime，这一特征是三层石墨能带结构的标志性特征。这些特征在特定频率窗口中表现为位移电流导电性的符号变化，从而可作为量子几何的探针。