铁磁异质结构中的非均匀磁化分布导致类拓扑霍尔效应特征

反常霍尔效应（AHE）是在垂直于铁磁材料施加磁场并通以电流时产生的，其正比于样品的磁化强度。AHE中额外的驼峰状特征常被归因于非平庸自旋织构的存在，从而导致拓扑霍尔效应（THE）。然而，近期若干报道针对铁磁SrRuO$_3$基异质结构指出，样品不均匀性也可产生类THE特征。为普遍考察任一铁磁异质结构中的这一问题，我们采用唯象模型计算由各种界面效应引起的磁滞回线形状变化。这些磁化变化通过假设域间磁耦合参数（$\alpha$）沿异质结构生长方向随距界面的距离呈指数变化来考量。对于铁磁体两侧对称界面的情形，我们将$\alpha$的变化取为高斯函数。我们发现，此类情形下由磁化净变化引起的额外AHE贡献与实验观测到的THE相似，尽管我们的模型未显式考虑任何拓扑量。因此，我们提出了另一种具有非均匀磁化分布的情境，可用于解释AHE中的额外特征，其未必是内禀THE。