静水压下La$_3$Ni$_2$O$_7$薄膜中的非费米液体行为
强关联电子
2026-03-31 v1 超导电性
摘要
双层镍氧化物中超导性的发现重新激发了理解这些材料中高温超导潜力及其与铜酸盐超导体关系的强烈努力。在本工作中，我们研究了双层LaNiO薄膜的生长与性质，作为衬底、氧处理和施加压力的函数，以研究输运性质的演化。我们报告了LaNiO薄膜在LaAlO (LAO) (001)和SrLaAlO (SLAO) (001)衬底上的外延生长，以及在富氧环境中高压炉中退火的效应。输运测量表明，LAO(001)上的LaNiO薄膜表现出费米液体般的金属行为，在低温下有轻微的类Kondo upturn，随着适度静水压的施加，演变为非费米液体行为，电阻温度依赖性接近（在1.41 GPa时）。将LaNiO薄膜的常态电阻率调节至在如此适度的静水压范围内——仅为通常通过金刚石压腔(DAC)施加于LaNiO单晶以实现类似效应的6–8%——即可呈现非费米液体行为，这是值得注意且出乎意料的。这些发现意味着LaNiO在薄膜形态下具有强可调性，并且很可能在甚至适度的施加压力下就存在通向非费米液体行为的强涨落有序态的近邻。
引用
@article{arxiv.2603.26978,
title = {Non-Fermi liquid behavior in La$_3$Ni$_2$O$_7$ thin films under hydrostatic pressure},
author = {Deepak Kumar and Jared Z. Dans and Keenan E. Avers and Ryan Paxson and Ichiro Takeuchi and Johnpierre Paglione},
journal= {arXiv preprint arXiv:2603.26978},
year = {2026}
}
备注
7 pages, 4 Figures