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氮化、磷化和砷化单层多孔石墨烯

材料科学 2016-01-08 v2 介观与纳米尺度物理

摘要

受近期报道合成新型二维材料氮化多孔石墨烯(C2_2N) [Mahmood \textit{et al., Nat. Comm.}, 2015, \textbf{6}, 6486]实验的启发,我们利用第一性原理计算研究了氮化(C2_2N)、磷化(C2_2P)和砷化(C2_2As)单层多孔石墨烯结构的电子、磁学和力学性质。我们的总能量计算表明,类似于C2_2N单层,另两种多孔结构的形成在能量上也是可行的。计算得到的各单层内聚能显示从C2_2N到C2_2As结构呈递减趋势。显著的是,所有多孔单层均为直接带隙半导体。关于力学性质(面内刚度和泊松比),我们发现C2_2N在三种单层中具有最高的面内刚度和最大的泊松比。此外,我们的计算揭示对于C2_2N、C2_2P和C2_2As单层,产生N和P缺陷将半导体行为改变为金属基态,而在所有多孔结构中引入双H杂质则导致磁性基态。作为实验合成C2_2N的替代,C2_2P和C2_2As是力学稳定且柔性的半导体,对光电子学中的潜在应用十分重要。

关键词

引用

@article{arxiv.1601.00851,
  title  = {Nitrogenated, Phosphorated and Arsenicated Monolayer Holey Graphenes},
  author = {Mehmet Yagmurcukardes and Seyda Horzum and Engin Torun and François M. Peeters and R. Tugrul Senger},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1601.00851},
  year   = {2016}
}