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二维电子系统微波光电阻中的多光子过程

介观与纳米尺度物理 2009-11-11 v1 强关联电子

摘要

利用单色和双色辐射,我们将超高迁移率二维电子系统 (2DES) 的微波光电阻研究扩展至高强度、非线性区域。在高强度单色辐射 ω\omega 下,我们观察到新的零阻态 (ZRS),它们对应于 ϵ=ω/ωC\epsilon=\omega/\omega_C (ωC\omega_C 为回旋频率) 的有理数值,并可归因于多光子过程。这些有理 ZRS 的形成伴随着光电阻谱的剧烈重构,表现为电阻峰的减小、变窄和相位缩减,以及在 ϵ<1/2\epsilon<1/2 时电阻的整体抑制。在双色辐射 ω1,ω2\omega_1,\omega_2 下,我们发现了新的电阻极小值,这可能是双色 ZRS 的前兆,它似乎源于频率混合过程 ω1+ω2\omega_1+\omega_2。这些发现表明,多光子过程在微波驱动的 2DES 的非平衡输运物理中起着重要作用,并为理论和实验研究提出了新方向。

关键词

引用

@article{arxiv.cond-mat/0512479,
  title  = {Multiphoton processes in microwave photoresistance of 2D electron system},
  author = {M. A. Zudov and R. R. Du and L. N. Pfeiffer and K. W. West},
  journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0512479},
  year   = {2009}
}

备注

4.5 pages, 3 figures