二次中性质谱条件下氩等离子体溅射PbTe晶体表面的形貌
材料科学
2017-01-09 v1
摘要
我们研究了在二次中性质谱（SNMS）条件下，由布里奇曼法从熔体生长、经能量50-550 eV的Ar+等离子体溅射5-50分钟的PbTe晶体样品的侧面形貌。发现溅射的PbTe晶体表面同时既是溅射材料的源，也是深度剖析过程中溅射材料再沉积的有效衬底。在溅射过程中，PbTe晶体表面形成凹坑形貌。被再沉积的溅射Pb和Te在PbTe晶体溅射表面上形成微观表面结构阵列，形状为丘状、金字塔状、锥状等。揭示了再沉积微观表面结构的密度、形状、平均尺寸与溅射能量和持续时间之间的相关性。
引用
@article{arxiv.1701.01601,
title = {Morphology of PbTe crystal surface sputtered by argon plasma under Secondary Neutral Mass Spectrometry conditions},
author = {D. M. Zayachuk and V. E. Slynko and A. Csik},
journal= {arXiv preprint arXiv:1701.01601},
year = {2017}
}