由磁扰动缓和的边界局域模引起的偏滤器足迹空间结构建模

共振磁扰动 (RMPs) 可以缓和边缘局域模 (ELMs)，即导致 ELM 特征改变为更小的能量损失和更高频率。在缓和过程中，在 DIII-D 和 MAST 上观察到偏滤器上 ELM 负载空间结构的变化：功率主要沉积在由磁扰动形成的足迹结构中。在本工作中，我们基于这样的思想发展了一种解释该效应的理论：部分 ELM 损失是由 ELM 磁扰动形成的同宿缠结中的平行输运引起的。由 ELM 扰动与施加的 RMP 组合产生的修正缠结具有将开放磁力线带到与单独 RMP 缠结相同区域的预期性质。我们表明该解释与 MAST 上被缓和 ELM 的特征一致。此外，我们通过使用 JOREK 代码对缓和 ELM 的模拟分析验证了我们的理论。我们在具有 ELM、施加 RMP 以及由 RMP 存在而缓和的 ELM 的 JOREK 运行中生成了偏滤器上磁力线的详细层流图。ELM 的结果清晰显示了在 ELM 非线性阶段出现的高 n 旋转足迹结构，这在 ELM 早期阶段不存在。来自 ELM 控制线圈的 n=2 RMP 的结果显示了预期的 n=2 足迹结构。被缓和 ELM 的结果显示了类似结构，受 ELM 的更高 n 扰动调制，与我们的理论一致。