KSTAR 中 RMP 对偏滤器与刮削层影响的等离子体响应模型比较
等离子体物理
2026-01-15 v1
摘要
共振磁扰动（RMPs）有利于控制托卡马克中的边缘局域模（ELMs）。然而，其副作用是在偏滤器靶板上的粒子和热负荷中出现螺旋条纹。这些条纹的范围和场线连接会因等离子体对外部扰动的响应而发生显著改变。对于 KSTAR 中的一个 ELM 抑制 H 模等离子体，基于 GPEC、MARS-F、M3D-C1 和 JOREK 的等离子体响应，使用 FLARE 计算了磁足迹，结果显示出显著差异（从 2 cm 到 14 cm）。这反映在 EMC3-EIRENE 对所得热负荷的模拟中：我们发现，与 IRTV 测量结果相比，条纹的峰值或范围似乎被高估了。只有在最小的磁足迹、较低的输入功率和较低的横场输运，或较高的上游密度和辐射功率损失的情况下，才能获得合理的一致性。
引用
@article{arxiv.2601.09617,
title = {Comparison of plasma response models for RMP effects on the divertor and scrape-off layer in KSTAR},
author = {H. Frerichs and J. Van Blarcum and T. Cote and S. K. Kim and Y. Q. Liu and S. M. Yang},
journal= {arXiv preprint arXiv:2601.09617},
year = {2026}
}
备注
17 pages, 10 figures, 1 table