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n型掺杂SnSe优异热电性能的微观起源

材料科学 2021-09-29 v1

摘要

实验上已观察到层外n型掺杂SnSe具有优异的热电性能(Chang et al., Science 360, 778-783 (2018))。然而,对于主导所有热电输运性质的散射机制,缺乏第一性原理研究。本工作中,通过应用与电离杂质散射计算相关的电子-声子耦合的广泛第一性原理计算,我们研究了在相似载流子密度下,与p型掺杂SnSe相比,层外n型掺杂SnSe中优值以及600 K以上zT增强背后的原因。对于n型掺杂情形,弛豫时间由电离杂质散射主导并随温度升高而增加,这一特征使功率因子在高温下保持高值,同时使零电流下载流子热导率(k_el)随更高温度下降更快,从而在807 K导致超高zT = 3.1。我们阐明了k_el和k^0(等电化学条件下由载流子输运引起的热导率)在决定zT中的作用。我们的结果表明,k^0与晶格热导率之比确实对应于zT的上限,而计算zT与上限之差正比于k_el。

关键词

引用

@article{arxiv.2107.02957,
  title  = {Microscopic origin of the excellent thermoelectric performance in n-doped SnSe},
  author = {Anderson S. Chaves and Daniel T. Larson and Efthimios Kaxiras and Alex Antonelli},
  journal= {arXiv preprint arXiv:2107.02957},
  year   = {2021}
}

备注

12 pages, 5 figures