硼烯薄膜的力学性能：反应力场分子动力学研究
材料科学
2017-04-17 v1
摘要
最新的实验进展可能为制备几种原子级厚度且平面的硼原子形式提供了途径。我们首次利用ReaxFF力场的分子动力学模拟，探究了五类空位比在0.1至0.15之间的硼薄膜的力学性能。研究发现，杨氏模量和拉伸强度随温度升高而降低。我们发现由于原子沿扶椅形和锯齿形方向排列不同，硼片表现出各向异性的力学响应。在室温下，这五种片的二维杨氏模量和断裂应力分别出现在63 N/m和12 N/m的范围内。此外，在1、300和600 K下，拉伸强度处的应变分别在9%、11%和10%的范围内。该研不仅揭示了二维硼的显著刚度，还建立了硼片的力学性能与加载方向、温度和原子结构之间的关系。
引用
@article{arxiv.1703.09058,
title = {Mechanical properties of borophene films: A reactive molecular dynamics investigation},
author = {Minh-Quy Le and Bohayra Mortazavi and Timon Rabczuk},
journal= {arXiv preprint arXiv:1703.09058},
year = {2017}
}