由自旋注入在铁磁金属层中的磁化翻转及两水平波动
介观与纳米尺度物理
2009-11-10 v1 统计力学
摘要
在高电流注入下，对单接触式铁磁纳米结构进行缓慢磁性松弛和两水平波动测量。样品的磁构型由均匀磁化的两个亚稳态描述。测量了电流依赖的有效能垒，其源于自旋输运从电流传递至磁层。与 6 m 长、60 nm 直径的 Ni 纳米线以及直径约 40 nm 的 Co (10 nm)/Cu (10 nm)/Co(30 nm) 纳米柱的结果比较，细化了该效应的表征。结果表明所有观察到的特征都不能归结为电流依赖的有效场的作用。相反，所有测量结果都可用依赖于电流幅度和方向的有效温度来描述。该系统此时等价于一个不稳定的开放系统。电流诱导的磁化翻转可解释为铁磁层两个界面之间的自旋注入平衡。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0306103,
title = {Magnetization reversal and two level fluctuations by spin-injection in a ferromagnetic metallic layer},
author = {J. -E. Wegrowe},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0306103},
year = {2009}
}
备注
9 pages, 8 figures