trapped于倍半硅氧烷笼中的原子氢的长电子自旋相干时间

封装于立方形八倍半硅氧烷（POSS）笼（Si$_8$O$_{12}$R$_8$型，其中R为有机基团）中的原子氢，是被视为自旋量子技术关键要素的参数型内嵌富勒烯（N@C$_{60}$或P@C$_{60}$）之外最简单的替代稳定体系。除核自旋与谱扩散等常见退相干源外，迄今研究的所有H@POSS物种均因甲基基团旋转而在低温下遭受$T_2$额外缩短。本文通过研究该家族中最小的无甲基衍生物（R=H，即H@T$_8$H$_8$）的弛豫性质，首次消除了这一因素。我们应用动力学解耦方法抑制核自旋扩散，并测得在$T=90$ K下电子自旋相干时间$T_2$长达280 $\pm$ 76 $\mu$s。我们观察到退相干率$1/T_2$与9$\times 10^{14}$ cm$^{-3}$至5$\times 10^{15}$ cm$^{-3}$范围内 trapped氢浓度呈线性依赖关系，将其归因于瞬时扩散的spin dephasing机制以及封装H原子的非均匀空间分布。