用于按需室温可重写磁图案化的相变局域光热控制

在非磁性背景中制作受控的磁性结构图案，对若干现有与拟议技术至关重要。此类图案构成磁存储与逻辑器件的基础，允许创建人工自旋冰晶格并支持磁子传播研究。此处，我们报道一种新颖的磁图案化方法，可重复创建与擦除任意形状的薄膜铁磁结构。该策略由外延 Fe$_{0.52}$Rh$_{0.48}$ 薄膜实现，其设计使得铁磁与反铁磁相在室温下均双稳态。从均匀反铁磁态薄膜出发，我们展示了通过聚焦激光局域加热写入任意铁磁相图案的能力。若需要，结果随后可由热电冷却器冷却擦除，材料可重复重新图案化。