光子环形腔中反射零点处的局部完美手性
光学
2025-07-28 v1
摘要
最近报告了在由两个强纳米散射器扰动的光子环形腔系统中，在异常点 (EP) 处的共挑模局部分散性手性。然而，我们发现了 EP 处之外参数空间中共挑模的局部完美手性。通过考虑纳米散射器处方位角传播模 (APMs) 的多次散射过程，并基于首次原理模型，预测局部完美手性源于 APMs 在两个纳米散射器处的单向反射无关性，即反射零点 (R-zero)。数值结果和模型预测一致表明，R-zero 的结构参数通常偏离 EP 的参数，这意味着 R-zero 处的两个分裂共挑模具有不同的复共振频率和电磁场。在一般情况下，只有一对分裂本征模在由两个纳米散射器划分的局部方位角范围内表现出局部完美手性。随着两个纳米散射器尺寸减小或其相对方位角减小，R-zero 趋于与 EP 重合。
引用
@article{arxiv.2502.05747,
title = {Local perfect chirality at reflection-zeros away from exceptional points in optical whispering gallery microcavity},
author = {Junda Zhu and Haitao Liu and Fang Bo and Can Tao and Guoquan Zhang and Jingjun Xu},
journal= {arXiv preprint arXiv:2502.05747},
year = {2025}
}