掺杂 SiGe 纳米颗粒的激光烧结薄膜
材料科学
2015-06-03 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
我们研究了由 SiGe 合金纳米颗粒 (NP) 或 Si 和 Ge 纳米颗粒复合材料组成的短脉冲激光烧结 (LS) 纳米颗粒薄膜的形貌和热电性能。在真空中对旋涂纳米颗粒薄膜进行激光烧结会产生具有典型厚度为 300 nm 的大孔渗流网络。Seebeck 系数独立于烧结过程，且具有简并掺杂的典型特征。LS 薄膜的电导率随温度升高而增加，最好用幂律描述，并受二维渗流效应影响。
引用
@article{arxiv.1201.4370,
title = {Laser-sintered thin films of doped SiGe nanoparticles},
author = {Benedikt Stoib and Tim Langmann and Sonja Matich and Tobias Antesberger and Niklas Stein and Sebastian Angst and Nils Petermann and Roland Schmechel and Gabi Schierning and Dietrich E. Wolf and Hartmut Wiggers and Martin Stutzmann and Martin S. Brandt},
journal= {arXiv preprint arXiv:1201.4370},
year = {2015}
}
备注
4 pages, 4 figures