面向电子束光刻的基于L形版图分割
硬件体系结构
2014-02-12 v1
摘要
版图分割是掩模数据准备与电子束光刻（EBL）写入中的基础步骤。为提高EBL吞吐量，近期提出了一种新的L形写入策略，这要求采用新的L形分割方式，以替代传统的矩形分割。同时，在版图分割过程中，出于可制造性考虑，必须尽量减少极细小/狭窄的图形，即所谓的细条（slivers）。本文探讨了这一新的研究问题：如何在最小化细条的同时进行L形分割。我们提出了两种新颖的算法。第一种为矩形合并（RM）算法，它从一组矩形分割图形出发，通过最优合并形成L形分割。第二种算法为直接L形分割（DLF）算法，它直接且有效地将输入版图分割为L形，并实现细条最小化。实验结果表明，我们的算法非常有效。
引用
@article{arxiv.1402.2420,
title = {L-Shape based Layout Fracturing for E-Beam Lithography},
author = {Bei Yu and Jhih-Rong Gao and David Z. Pan},
journal= {arXiv preprint arXiv:1402.2420},
year = {2014}
}