用于设计介电超材料的深光栅的Kapitza均匀化
光学
2015-06-15 v1
摘要
我们从理论上研究了横向光栅对横电波的介电响应的均匀化，该光栅满足Kapitza条件，即介电常数快速调制，调制深度与波长和调制周期之比成比例。我们表明，得到的有效介电常数除了底层介电剖面的标准平均值外，还有一个来自快速且深度介电调制的额外贡献。该贡献被证明与另一个贡献相当，因此可以为设计介电超材料提供额外途径。作为例子，我们讨论了通过改变光栅深度由Kapitza贡献产生的有效金属-介电转变。
关键词
引用
@article{arxiv.1303.4947,
title = {Kapitza homogenization of deep gratings for designing dielectric metamaterials},
author = {Carlo Rizza and Alessandro Ciattoni},
journal= {arXiv preprint arXiv:1303.4947},
year = {2015}
}
备注
3 pages, 3 figures