类硼氧离子 (O$^{3+}$) 的 K 壳层光电离：实验与理论

利用法国 Saint-Aubin 的 SOLEIL 同步辐射设施中的离子 - 光子合并束技术，测量了类硼 (B-like) O$^{3+}$ 离子 {\it K} 壳层光电离的绝对截面。在 540 eV 至 600 eV 的光子能量范围内，实现了 E/$\Delta$E $\approx$ 5000（$\approx$ 110 meV, FWHM）的高分辨率光谱。采用了多种理论方法，包括 R-Matrix、多组态 Dirac-Fock 和单位核电荷屏蔽常数，以识别和表征在该离子 {\it K} 壳层光谱中观测到的强 1s $\rightarrow$ 2p 和弱 1s $\rightarrow$ 3p 共振。讨论了类硼序列前几个离子中强 $\rm 1s \rightarrow 2p$ 共振的积分振子强度和自电离宽度（自然线宽）的趋势。