初始高电场--真空弧放电破裂测试结果：用于增材制造纯铜电极
加速器物理
2024-10-03 v1
摘要
增材制造（Additive Manufacturing, AM）已经在 various manufacturing applications中得到广泛应用，提供了许多优势，如设计自由度、用于部件的新颖且复杂的冷却设计以及不同的性能提升，同时显著缩短了生产时间。就这些特点而言，AM也被视为制造射频四极子（RFQ）原型机的技术。对于此应用，重要参数是表面的耐压能力。此外，纯铜表面的耐压能力也对整个加速器社区具有重要意义，尤其是针对未来发展的前景。为了 characterize these properties，对AM生产的纯铜电极进行了一系列高电场测试，使用了CERN脉冲高压直流系统。测试所用的AM电极具有较大的表面粗糙度。在测试过程中维持了高真空环境。还监控了电击破裂率，以确保不超过10的破裂限制-5次脉冲破裂。所取得的结果为AM制造的纯铜电极在真空弧破裂测试中的性能提供了首次的初始参考值。初始结果表明，AM电极能够承受高电场，同时具有较低的破裂率。这些是进一步利用AM技术用于不同AM纯铜加速器组件的关键结果。
引用
@article{arxiv.2410.01714,
title = {Initial high electric field -- vacuum arc breakdown test results for additively manufactured pure copper electrodes},
author = {A. Ratkus and T. Torims and G. Pikurs and V. Bjelland and S. Calatroni and R. Peacock and C. Serafim and M. Vretenar and W. Wuensch},
journal= {arXiv preprint arXiv:2410.01714},
year = {2024}
}
备注
Inproceedings IPAC2023, JACoW Publishing, ISBN: 978-3-95450-231-8