Planck 前景掩膜在 CMB 大角尺度象限不对称性中的影响

测得的 CMB 角分布与 LCDM 模型高度一致。然而，在 WMAP 和 Planck 数据的 CMB 温度图中均报道了各向同性破缺。我们研究了在 CMB 角分布分析中采用的不同掩膜的影响，特别是在东南象限(SEQ)的功率超出和东北象限(NEQ)的功率缺失方面。我们将 CMB 前景清洗温度图的每个象限计算的两点相关函数(TPCF)与采用 LCDM 最佳拟合功率谱生成的 1000 个模拟在使用四种不同掩膜下进行比较。除象限外，我们还计算了图中存在功率超出和缺失的圆形区域的 TPCF。我们还比较了银河系切割在 TPCF 计算中与模拟相比的效应。我们发现三种掩膜（即 mask-rulerminimal、U73 和 U66）的结果一致。结果表明，SEQ 中的功率超出随着掩膜覆盖天空比例的增加趋于消失，而 NEQ 中的功率缺失几乎保持不变。当应用 UT78 掩膜时，NEQ 不再异常，而 SEQ 中的功率超出成为各掩膜中最显著的一个。尽管如此，SEQ 与 NEQ 之间的不对称性独立于掩膜，并且与各向同性模型至少 95% C.L. 下不符。我们发现 UT78 与其他被分析的掩膜不一致，特别是在考虑 SEQ 和 NEQ 单独分析时。最重要的是，使用 UT78 抹去了 NEQ 中的异常。此外，我们发现与模拟相比，在 NEQ 中未被 UT78 掩膜但被其他掩膜掩盖的区域存在超额峰度，表明先前的结果可能归因于 UT78 未去除的残留前景。