微加工表面离子阱中射频击穿的原位检测
应用物理
2022-04-11 v1 原子物理
量子物理
摘要
微加工表面离子阱是许多基于离子的量子信息科学平台的主要组件。随着实验追求日益提升的性能，这些器件的工作参数被推至其物理能力的边缘。当施加的射频（RF）电压过高时，器件会发生称为 RF 击穿的破坏性放电事件。我们介绍了两种用于 RF 击穿原位检测的新技术，并在表征桑迪亚国家实验室生产的表面离子阱的击穿阈值时予以实施。在这些阱中，击穿并非总在增加 RF 电压后立即发生，而常出现在数分钟甚至数小时后。该结果在真空中 RF 击穿的 suggested 机制背景下令人惊讶。此外，击穿事件造成的可见损伤范围随施加电压增大而增加。为在首次向器件施加 RF 功率时最小化损伤概率，我们的结果强烈建议电压应在数小时内斜坡式升高并监测击穿。
引用
@article{arxiv.2112.09723,
title = {In situ detection of RF breakdown on microfabricated surface ion traps},
author = {Joshua M. Wilson and Julia N. Tilles and Raymond A. Haltli and Eric Ou and Matthew G. Blain and Susan M. Clark and Melissa C. Revelle},
journal= {arXiv preprint arXiv:2112.09723},
year = {2022}
}