束内本底抑制屏蔽体
仪器与探测器
2015-12-15 v1
摘要
欧洲散裂源 (ESS) 的长（3 ms）质子脉冲给仪器套件带来了独特且潜在的高本底。在此类源中，仪器性能将受其信噪比 (S/N) 限制。那些直接看到慢化剂、且不使用弯曲器来帮助减轻快中子本底的仪器最具挑战性。对于这些束线，我们提出了一种创新屏蔽方案：将材料块直接放入引导系统，相对于本底抑制，这允许对冷通量和热通量的最小衰减。该屏蔽配置已使用 Geant4 纳入束线模型。我们特别研究了单晶蓝宝石和硅块的优势。
引用
@article{arxiv.1512.04251,
title = {In-Beam Background Suppression Shield},
author = {V. Santoro and X. X. Cai and D. D. DiJulio and S. Ansell and P. M. Bentley},
journal= {arXiv preprint arXiv:1512.04251},
year = {2015}
}
备注
12 pages, 8 figures, proceeding of NDS 2015, 4th International Workshop on Neutron Delivery Systems, 28 -30 September 2015, ILL Grenoble, France