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拓扑 Kondo 绝缘体中涌现重 Dirac 费米子的成像

强关联电子 2020-03-10 v1

摘要

Kondo 绝缘体是寻找强关联拓扑量子相的主要候选体系,其可能具有拓扑序、分数量子化及非阿贝尔统计。在某些 Kondo 绝缘体中,杂化能隙被预言可保护非平庸拓扑不变量,并容纳涌现的重 Dirac 费米子表面模。我们在 Kondo 绝缘体 SmB6_6 上利用实空间与动量空间的高能量分辨谱学成像进行研究。在冷却通过 TΔT^*_{\Delta}\approx 35 K 时,我们观察到绝缘能隙开启并扩展至 2 K 时的 Δ\Delta\approx 10 meV。在能隙内,我们成像了线性色散表面态的形成,其有效质量达到 m=(410±20)mem^* = (410\pm20)m_e。因此我们证明了存在承载已知最重 Dirac 费米子的强关联拓扑 Kondo 绝缘体相。

关键词

引用

@article{arxiv.1810.13419,
  title  = {Imaging emergent heavy Dirac fermions of a topological Kondo insulator},
  author = {Harris Pirie and Yu Liu and A. Soumyanarayanan and Pengcheng Chen and Yang He and M. M. Yee and P. F. S. Rosa and J. D. Thompson and Dae-Jeong Kim and Z. Fisk and Xiangfeng Wang and J. Paglione and Dirk K. Morr and M. H. Hamidian and Jennifer E. Hoffman},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1810.13419},
  year   = {2020}
}