HiPIMS磁化等离子体余辉诊断
等离子体物理
2019-06-26 v2
摘要
利用高功率脉冲磁控溅射（HIPIMS）技术沉积耐恶劣环境条件的薄膜是一项技术挑战。为确立最佳工作条件，需要了解脉冲阴极电流结束时磁化等离子体的寿命。我们开发的台式系统能够测量所有工作类型HiPIMS的寿命，包括短脉冲和长脉冲，其基于施加具有极短上升时间的电压脉冲时电流的快速增加，直至达到取决于初始磁化等离子体特征的值。
引用
@article{arxiv.1906.09772,
title = {HiPIMS magnetized plasma afterglow diagnostic},
author = {Mihai Ganciu and Bogdan Butoi and Andreea Groza and Bogdan Mihalcea},
journal= {arXiv preprint arXiv:1906.09772},
year = {2019}
}
备注
8 pages, 6 figures, Presented at HIPIMS-ST-Conference, June 19-20, 2019, Braunschweig, Germany