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高量子效率超纳米晶金刚石光阴极:负电子亲和势与$n$型掺杂的结合

材料科学 2015-06-22 v1 介观与纳米尺度物理

摘要

我们报告了对厚度为 150 nm 的掺氮超纳米晶金刚石(经氢终止,缩写为 (N)UNCD:H)进行的量子效率 (QE) 测量结果。(N)UNCD:H 在 254 nm 波长下表现出约\sim103^{-3}(约 0.1%)的 QE。此外,(N)UNCD:H 对可见光敏感,在 405 nm 处的 QE 约为\sim5×\times108^{-8},在 436 nm 处约为\sim5×\times109^{-9}。在生长完成后且进行 QE 测量之前,样品暴露于空气中约 2 小时以便转移和装载。该设计利用了一个关键组合:1) H 终止在 (N)UNCD 上诱导负电子亲和势 (NEA),并使其表面在空气暴露下保持稳定;2) N 掺入在本征绝缘的 UNCD 中诱导nn型电导率。

关键词

引用

@article{arxiv.1407.5113,
  title  = {High Quantum Efficiency Ultrananocrystalline Diamond Photocathode: Negative Electron Affinity Meets $n$-doping},
  author = {K. J. Pérez Quintero and S. Antipov and A. V. Sumant and C. Jing and A. D. Kanareykin and S. V. Baryshev},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1407.5113},
  year   = {2015}
}

备注

3 pages; 3 figures