加速器射频电子注入器中的平面超纳米晶金刚石场发射体：性能指标

Sergey V. Baryshev; Sergey Antipov; Jiahang Shao; Chunguang Jing; Kenneth J. Pérez Quintero; Jiaqi Qui; Wanming Liu; Wei Gai; Alexei D. Kanareykin; Anirudha V. Sumant

加速器射频电子注入器中的平面超纳米晶金刚石场发射体：性能指标

加速器物理 2014-10-22 v1 材料科学

作者: Sergey V. Baryshev , Sergey Antipov , Jiahang Shao , Chunguang Jing , Kenneth J. Pérez Quintero , Jiaqi Qui , Wanming Liu , Wei Gai , Alexei D. Kanareykin , Anirudha V. Sumant

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摘要

在一个 1.3 GHz 射频电子枪中，对基于掺氮超纳米晶金刚石 ((N)UNCD) 的平面场发射阴极 (FEC) 进行了案例性能研究。该 FEC 是一片生长在直径 20 mm 的不锈钢圆盘上、带有 Mo 缓冲层的 100 nm (N)UNCD 薄膜。在 45-65 MV/m 的表面梯度下，实现了 1-80 mA 的峰值电流（相当于 0.3-25 mA/cm $^2$ ）。通过两个 YAG 屏幕成像确认了来自 (N)UNCD 表面的发射，其 (1) 束流发射度为 1.5 mm $\times$ mrad/mm-rms，(2) 在电子能量为 2 MeV 时，纵向半高全宽 (FWHM) 和均方根 (rms) 能散分别为 0.7% 和 11%。在 36 $\times$ 10 $^3$ 个射频脉冲（相当于 288 $\times$ 10 $^6$ 次 GHz 振荡）的过程中测试了电流稳定性。

关键词

场发射阴极超纳米晶金刚石射频电子枪束流发射度能散电流稳定性加速器

引用

@article{arxiv.1410.5795,
  title  = {Planar Ultrananocrystalline Diamond Field Emitter in Accelerator RF Electron Injector: Performance Metrics},
  author = {Sergey V. Baryshev and Sergey Antipov and Jiahang Shao and Chunguang Jing and Kenneth J. Pérez Quintero and Jiaqi Qui and Wanming Liu and Wei Gai and Alexei D. Kanareykin and Anirudha V. Sumant},
  journal= {arXiv preprint arXiv:1410.5795},
  year   = {2014}
}

备注

7 pages, 4 figures

加速器射频电子注入器中的平面超纳米晶金刚石场发射体：性能指标

摘要

关键词

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