CoFeB/(Ta, Ag, Cu)多层铁磁薄膜中通过磁阻抗效应的高频磁行为
材料科学
2015-05-28 v1
摘要
我们通过研究磁控溅射生长的 CoFeB/(Ta, Ag, Cu)多层薄膜中的磁阻抗效应，考察了其磁化动力学。阻抗测量结果根据不同频率区间内引起变化的主导机制以及多层膜的磁性和结构特性进行了分析。对基于频率和外磁场引起磁阻抗的机制分析表明，对于 CoFeB/Cu 多层膜，铁磁共振在接近 470 MHz 的频率下对磁阻抗效应有显著贡献。与 CoFeB/Ta 和 CoFeB/Ag 多层膜所得结果相比，该频率较低，这是该样品中各向异性分布和不形成规则双层结构的结果。最大磁阻抗值出现的频率因所用的非磁性金属而异。在 CoFeB/Ta 和 CoFeB/Ag 的情形中，在局域频带内观察到 25% 至 30% 的变化；而在 CoFeB/Cu 的情形中，该变化出现在一个宽频率范围内。
引用
@article{arxiv.1107.0204,
title = {High frequency magnetic behavior through the magnetoimpedance effect in CoFeB/(Ta, Ag, Cu) multilayered ferromagnetic thin films},
author = {M. S. Marques and T. Mori and L. F. Schelp and C. Chesman and F. Bohn and M. A. Correa},
journal= {arXiv preprint arXiv:1107.0204},
year = {2015}
}
备注
14 pages, 5 figures