薄膜中的高密度非磁性钴
材料科学
2018-04-04 v1
摘要
最近，在生长于 Si(111) 上的钴薄膜中发现了一种高密度（HD）非磁性（NM）钴。该钴膜顶部有一层天然氧化钴，当薄膜从电子束沉积腔取出并暴露于空气时形成。在钴/硅界面和氧化钴/钴界面附近均发现了薄层 HD NM 钴，而薄膜中部较厚的区域则为具有正常密度和正常磁矩的 hcp 钴。若在暴露于空气之前在钴层上生长一层超薄金膜，则可防止钴表面层的氧化。研究 HD NM 钴层在薄膜中的生长是否依赖于 (i) 金层覆盖、(ii) 膜厚以及 (iii) 衬底性质，具有重要意义。本文给出的研究结果表明，对于用薄金层覆盖且具有不同膜厚的钴薄膜，仍能观察到 HD NM 钴层。然而，当钴薄膜生长在氧化物衬底（如氧化硅或氧化钴）上而非 Si 衬底上时，则未观察到 HD NM 钴层。
引用
@article{arxiv.1703.04270,
title = {High density nonmagnetic cobalt in thin films},
author = {Nasrin Banu and Surendra Singh and Saibal Basu and Anupam Roy and Hema C. P. Movva and B. N. Dev},
journal= {arXiv preprint arXiv:1703.04270},
year = {2018}
}
备注
19 pages, 9 figures