基于分离宇宙模拟的暗晕形成偏置

我们提出利用分离宇宙技术对暗晕形成偏置进行校准。具体而言，我们测量在固定质量和浓度下暗晕丰度对存在无限波长初始扰动的响应。我们开发了一个解析框架，用于描述这种峰-背景分裂暗晕偏置（一种形成偏置的度量）的浓度依赖性，该框架依赖于固定暗晕质量下暗晕浓度的近似对数正态分布。该解析框架与分离宇宙技术相结合，使我们能够在线性形成偏置 $b_1$ 的校准中实现非常高精度，并定性地重现已知趋势，例如 $b_1$ 在大（小）质量处随暗晕浓度单调减小（增加）。同一框架扩展到高阶偏置参数 $b_n$ 的浓度依赖性，并且我们给出了 $b_2$ 中形成偏置的首次校准。我们的校准直接适用于解析晕模型计算，这些计算旨在从观测样本中稳健地探测星系形成偏置。我们探测到由形成偏置引起的 $b_1 - b_2$ 关系中的非普适性，并建议同时测量这些偏置参数可用于探测形成偏置的特征以及减轻其在宇宙学分析中的影响。