基于新型平面校准方法的反射模式 Gafchromic EBT2 胶片剂量测量
医学物理
2014-03-18 v1
摘要
目的：对由 Gafchromic EBT2 放射性变色胶片与 Epson Expression 10000XL 平板扫描仪组成的剂量测量系统进行验收。本文解决了关于放射性变色胶片剂量测量验收的几个开放性问题：a) 是否可以在反射模式下使用该剂量测量系统；b) 如果可以，透射模式中使用的 method 是否也可用于反射模式；c) 是否可以使用 Gafchromic EBT2 胶片获得准确的绝对剂量测量值；d) 应遵循哪种校准方法；e) 应使用哪种校准模型；f) 三通道剂量测量是否比单通道剂量测量提供显著改进。本文旨在澄清这些问题。结论：研究发现，采用 Gafchromic EBT2 放射性变色胶片的反射模式是透射模式的可行替代方案。透射模式中使用的相同方法可应用于反射模式。开发了一种用于校准和多通道剂量测量的新型平面（plan-based）方法。该新方法提高了对胶片响应不均匀性的鲁棒性，并显著减少了校准所需的时间。
引用
@article{arxiv.1403.4041,
title = {Gafchromic EBT2 film dosimetry in reflection mode with a novel plan-based calibration method},
author = {I. Mendez and V. Hartman and R. Hudej and A. Strojnik and B. Casar},
journal= {arXiv preprint arXiv:1403.4041},
year = {2014}
}