再电离时期 Ly-alpha 强度映射中的前景污染
宇宙学与河外天体物理
2015-06-18 v2
摘要
再电离时期 (EoR) 的 Ly-alpha 发射强度映射将受到来自较低红移的前景发射线的污染。我们计算了 z~7 时 Ly-alpha 发射的平均强度和功率谱，并根据相关的天体物理过程估算了不确定性。我们发现，来自 6563 A H-alpha、5007 A [OIII] 和 3727 A [OII] 的低红移发射线将成为观测到的 Ly-alpha 功率谱的强污染源。我们利用恒星形成率 (SFR) 和光度函数 (LF) 来估算三条前景线在 z~0.5 (H-alpha)、z~0.9 ([OIII]) 和 z~1.6 ([OII]) 处的平均强度和功率谱，因为它们会污染 z~7 处的 Ly-alpha 发射。研究发现 [OII] 线是最强的。我们分析了掩蔽具有高于某一线强度阈值的前景线的明亮巡天像素，以此作为减少强度映射巡天中污染的一种方法。我们发现，如果移除通量高于 1.4x10^-20 W/m^2 的像素，前景污染可以忽略不计。
引用
@article{arxiv.1312.2035,
title = {Foreground contamination in Ly-alpha intensity mapping during the epoch of reionization},
author = {Yan Gong and Marta Silva and Asantha Cooray and Mario G. Santos},
journal= {arXiv preprint arXiv:1312.2035},
year = {2015}
}
备注
12 pages, 10 figures and 1 table, accepted for publication in ApJ