从 near-threshold $\phi$ photoproduction on helium-4 中首次提取 $\phi$-$^{4}\mathrm{He}$ 散射长度

我们基于 LEPS 合作的数据，对 gamma + 4He -> phi + 4He 的 near-threshold phi photoproduction on helium-4，提出了一个独立于模型的 phi-4He 散射长度提取方法，运用了 Vector Meson Dominance 框架。假设能量无关的微分截面，我们在阈值 t_thr 处进行拟合，提取了 phi-4He 散射长度的绝对值 |alpha_{phi4He}| = (3.33 +- 0.06) x 10^{-4} fm。该值与 phi-N 和 phi-d 散射长度相比小一个数量级，表明 |alpha_VA| 随靶核质量呈反比例关系。我们的结果为 phi-核相互作用提供了新的见解，支持 phi-核耦合较弱的观念。我们进一步探讨了 |alpha_VA| 随向量介子质量、靶原子质量和阈值能量的依赖性。观察到 |alpha_VA| 随向量介子质量或靶原子质量增加而呈指数级抑制，表明更重的向量介子或更重的靶核在向量介子-核相互作用中表现出较弱的耦合。