电化学沉积的场论方法
材料科学
2009-11-10 v1
摘要
在这项工作中，我们展示了 lambda-phi^4 场论模型在原子和分子于金属表面吸附——即电化学沉积——中的应用。研究该系统的常规方法包括使用 Monte Carlo 技术对有效晶格气体哈密顿量进行计算模拟。我们构建了一个有效模型，以比较晶格气体哈密顿量与 lambda-phi^4 哈密顿量的离散版本，并获得了模型参数与电化学量之间的关系。在平均场近似下研究了 lambda-phi^4 模型，并将结果拟合与数值模拟及实验数据进行了比较。
引用
@article{arxiv.cond-mat/0404225,
title = {Field Theoretical Approach to Electrochemical Deposition},
author = {H. A. Taroco and A. L. Mota},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0404225},
year = {2009}
}
备注
9 pages, 5 figures