具有类高斯轮廓的快速费米子涂抹方案
高能物理 - 格点
2024-02-28 v3
摘要
我们提出了一种新型涂抹方案，其给出类高斯轮廓，并且在计算机时间消耗方面比传统高斯涂抹更高效。我们还对不同涂抹方案的轮廓、涂抹尺寸和强子有效质量行为进行了详细分析，并指出涂抹方案中具有足够数量的规范路径对于产生强涂抹效应至关重要。对于中等涂抹尺寸，该新型涂抹的时间成本小于传统高斯涂抹的。在具有更大涂抹尺寸或更细格距的实际格点计算中，这种改进将更加显著。
引用
@article{arxiv.2310.02179,
title = {Fast Fermion Smearing Scheme with Gaussian-like Profile},
author = {ChuanYang Li and Terrence Draper and Jun Hua and Jian Liang and Keh-Fei Liu and Jun Shi and Nan Wang and Yi-bo Yang},
journal= {arXiv preprint arXiv:2310.02179},
year = {2024}
}