通过动态掩模沉积制备一维可编程高度纳米结构
介观与纳米尺度物理
2009-11-13 v1
摘要
动态掩模沉积 (DSD) 技术提供了传统光刻工艺无法实现的多种制备优势，例如直接沉积具有可编程高度分布的纳米结构的能力。然而，由于其复杂性，DSD 系统尚未得到广泛应用。我们展示了一种简单、低轮廓、便携式的一维纳米平移系统，有助于获取纳米尺度的 DSD 能力。此外，我们展示了多种制备的可编程高度纳米结构，包括此类结构的平行阵列，并提出了其他利用 DSD 制备方法独特能力的应用。
引用
@article{arxiv.0802.1848,
title = {Fabrication of One-Dimensional Programmable-Height Nanostructures via Dynamic Stencil Deposition},
author = {J. L. Wasserman and K. Lucas and S. H. Lee and A. Ashton and C. D. Crowl and N. Markovic},
journal= {arXiv preprint arXiv:0802.1848},
year = {2009}
}
备注
6 pages, 5 figures