PIN-PMN-PT 的刻蚀特性及其在电光相位调制器中的集成

我们研究了 PIN-PMN-PT 晶体的刻蚀特性，探索了各种湿法刻蚀溶液、反应离子刻蚀气体和离子束刻蚀。对每种方法的刻蚀速率和表面粗糙度进行了系统测量。描述并执行了一种获取 PIN-PMN-PT 薄膜的工艺流程，随后用于构建单模脊形波导。通过在波导两侧沉积电极，制备了集成电光相位调制器。我们的相位调制器中涉及的电光系数为 $r_{51}/r_{42}$。对其性能进行了测试，实现了 19.2 V$\cdot$cm 的 $V_\pi L$。