通过光刻硬掩模支撑增强溶剂退火嵌段共聚物薄膜的排序动力学
软凝聚态物质
2014-05-14 v1
摘要
我们研究了溶剂驱动的嵌段共聚物薄膜的排序动力学，该薄膜由作为光刻制造有机硬掩模（HM）的致密交联聚合物网络支撑。发现与硅片上的类似嵌段共聚物薄膜相比，在HM层上的薄膜中，在对应于中间/强分凝区域的中低溶胀度下，微相分离域的排序显著更快。链迁移率的十倍增强体现在形态相变和宏观尺度上相关平台形成过程的动力学中，以及纳米结构的长程横向有序度上。该效应与嵌段共聚物的化学结构和体积组成（圆柱/层状形成）无关。原位椭偏测量溶胀行为显示，HM-嵌段共聚物双层薄膜的溶剂吸收累积增加1-3 vol%，因此我们提出除了稀释效应之外的原因来解释在浓缩嵌段共聚物溶液中观察到的链迁移率的显著增强。HM支撑的另一个有益效果是抑制薄膜去湿，即使对于低分子量均聚物聚苯乙烯薄膜在高溶胀度下也是如此。除了在嵌段共聚物辅助纳米光刻中的直接技术影响外，我们的发现提供了关于分子结构对聚合物-溶剂相互作用影响的新见解。
引用
@article{arxiv.1405.3065,
title = {Enhancing ordering dynamics in solvent-annealed block-copolymer films by lithographic hard masks supports},
author = {Anja Stenbock-Fermor and Armin W. Knoll and Alexander Böker and Larisa Tsarkova},
journal= {arXiv preprint arXiv:1405.3065},
year = {2014}
}
备注
This document is the unedited Author's version of a Submitted Work that was subsequently accepted for publication in Macromolecules, copyright \c{opyright} American Chemical Society after peer review. To access the final edited and published work see http://pubs.acs.org/doi/abs/10.1021/ma500561q