无序 Heisenberg 薄膜中受扰表面的效应
材料科学
2009-09-29 v3
摘要
我们通过大规模蒙特卡罗(MC)模拟和解析 Green 函数(GF)方法研究了受扰表面对由原子堆叠的三角层构成的薄膜属性的影响,这些薄膜中的原子携带 Heisenberg 自旋并具有类似 Ising 的相互作用各向异性。我们假设面内表面相互作用 可为抗铁磁或铁磁,而其他所有相互作用均为铁磁。我们指出,当 小于临界值 时,地面态自旋配置为非线性的,薄膜表面因此受扰。在受扰情况下,存在与表面层和内部层无序相关的两个相变。MC 与 GF 结果之间存在良好一致性。此外,我们从 MC 直方图计算中表明,观察到的相变临界指数比值 偏离两个和三个 Ising 普适类的值。其偏离的起源通过一般物理论述加以说明。
关键词
引用
@article{arxiv.cond-mat/0409543,
title = {Effects of Frustrated Surface in Heisenberg Thin Films},
author = {V. Thanh Ngo and H. T. Diep},
journal= {arXiv preprint arXiv:cond-mat/0409543},
year = {2009}
}
备注
9 pages, 16 figures