微结构对外延CaRuO$_3$薄膜电子输运性质的影响
强关联电子
2020-09-11 v1 介观与纳米尺度物理
摘要
我们对在不同氧压下生长的CaRuO薄膜的结构和输运性质进行了广泛的比较研究。我们发现薄膜的择优取向和表面粗糙度在生长过程中受氧分压的强烈影响。这进而影响了薄膜的电学和磁学性质。在高氧压下生长的薄膜具有最小的表面粗糙度，并在最低测量温度下显示出良好金属的输运特征。另一方面，在低氧压下生长的薄膜具有高度表面粗糙度，并显示出铁磁性的特征。我们能够验证这些薄膜中的低频电阻涨落（噪声）源于局域缺陷的热激活涨落，且缺陷密度与通过结构表征所观察到的无序程度相符。
引用
@article{arxiv.2009.04537,
title = {Effect of microstructure on the electronic transport properties of epitaxial CaRuO$_3$ thin films},
author = {Gopi Nath Daptary and Chanchal Sow and Suman Sarkar and Santosh Chiniwar and P. S. Anil Kumar and Anomitra Sil and Aveek Bid},
journal= {arXiv preprint arXiv:2009.04537},
year = {2020}
}