通用厚硅技术中带有金属反射器的阶梯光栅
光学
2015-06-22 v1
摘要
本文报道了在通用厚硅技术中，使用金属反射器的阶梯光栅（Echelle Grating）复用器的实验演示。展示了两种复用器设计，分别覆盖 C 波段以及部分 S 和 L 波段，通道数分别为 4 和 8。这些复用器表现出与先前在专用制造工艺上报道的器件相似的性能。测得的平均指标为：插入损耗 5 dB，损耗不均匀性 3 dB，偏振相关损耗 0.6 dB，偏振相关波长漂移 0.3 nm，且 footprint 减小。提供了带有和不带金属镜的复用器在两种偏振下的性能比较。测量了多个芯片，并分析了复用器的通带特性，为未来设计者提供了工艺变化的参考。
引用
@article{arxiv.1506.05945,
title = {Echelle Gratings with Metal Reflectors in Generic Thick Silicon Technology},
author = {José David Doménech and Rocío Baños and Pascual Muñoz},
journal= {arXiv preprint arXiv:1506.05945},
year = {2015}
}