(CH3-C5H4)Pt(CH3)3 在SiO2表面的动力学与碎裂机制
材料科学
2018-03-21 v3
摘要
使用密度泛函理论(DFT)和基于有限温度DFT的分子动力学模拟，研究了(CH3-C5H4)Pt(CH3)3 ((甲基环戊二烯基)三甲基铂)分子在完全和部分羟基化SiO2表面的相互作用，以及该相互作用的动力学。完全和部分羟基化表面分别代表电子束处理前和处理后的基底，本研究考察了基底电子束预处理在前驱体解离和Pt沉积形成初始阶段的作用。我们的模拟显示，在完全羟基化表面或未处理表面上，前驱体分子保持未活化，而在部分羟基化表面上观察到(CH3-C5H4)Pt(CH3)3的碎裂。发现前驱体分子在部分羟基化表面上的行为依赖于分子的初始取向和表面活性位点的分布。基于模拟和现有实验的观察，我们讨论了前驱体的可能解离通道。
引用
@article{arxiv.1706.07314,
title = {Dynamics and fragmentation mechanism of (CH3-C5H4)Pt(CH3)3 on SiO2 Surfaces},
author = {K. Muthukumar and Harald O Jeschke and Roser Valenti},
journal= {arXiv preprint arXiv:1706.07314},
year = {2018}
}
备注
18 Pages, 5 Figures